फोटोवोल्टिक का उपयोग - जर्मनी में सूर्य के प्रकाश का विद्युत प्रवाह में परिवर्तन - अच्छी तरह से चल रहा है। 30% से अधिक की विकास दर के साथ, शाखा फलफूल रही है। लगभग 90% वर्तमान सौर कोशिकाएं सेमीकंडक्टर के रूप में सिलिकॉन का उपयोग करती हैं,
हालांकि, एक अन्य सामग्री के साथ एक रिकॉर्ड सेट ने हाल ही में ध्यान आकर्षित किया है: सौर ऊर्जा प्रणाली आईएसई (इंस्टीट्यूट फर सोलारे एनर्जिज़िस्टे) के फ्राउनहोफर इंस्टीट्यूट के शोधकर्ताओं ने III-V सेमीकंडक्टर्स से एक सौर सेल विकसित किया है जिसके साथ उन्होंने हासिल किया है 35% की यूरोप में दक्षता का रिकॉर्ड स्तर। तत्व केवल 0,031 सेमी 2 है और आवधिक वर्गीकरण के तीसरे और पांचवें कॉलम से सामग्री से बना है।
30% से अधिक की दक्षता के स्तर को प्राप्त करने के लिए, विभिन्न सामग्रियों की सौर कोशिकाओं को ढेर किया जाना चाहिए। "हमारा रिकॉर्ड सेल एक ट्रिपल मोनोलिथिक सोलर सेल है," फ्रानुनहोफ़ आईएसई में परियोजना प्रबंधक श्री एंड्रियास बेट्ट बताते हैं। “वह बनी है
गैलियम इंडियम फॉस्फाइड, गैलियम आर्सेनाइड और जर्मेनियम (GaInP / GaAs / Ge) और एक प्रक्रिया में निर्मित होता है। तीन अलग-अलग सामग्रियों का उपयोग सेल की दक्षता को बढ़ाने के लिए संभव बनाता है, सौर स्पेक्ट्रम के विभिन्न भागों को एक तरह से बदल दिया जाता है
विद्युत ऊर्जा में इष्टतम "। इस प्रकार की कोशिका, और विशेष रूप से इसकी उच्च डिग्री दक्षता, अंतरिक्ष अनुसंधान के लिए सबसे महत्वपूर्ण है। हीलब्रोन में RWE स्पेस सोलर पावर कंपनी पहले से ही इस प्रकार की कोशिकाओं का निर्माण करती है - सतहों पर बहुत अधिक
महत्वपूर्ण - फ्राउनहोफर आईएसई संस्थान द्वारा विकसित एक प्रक्रिया से। सौर सेल में स्थलीय अनुप्रयोग भी हैं। आईएसई इंस्टीट्यूट में सोलर सेल्स डिपार्टमेंट के डायरेक्टर गेरहार्ड विलेके बताते हैं, '' हमने छोटे सेल को FLATCON (TM) कंसंटेटर मॉड्यूल में रखा। "इस तकनीक के लिए धन्यवाद, हम 25% से ऊपर दक्षता स्तर के साथ फोटोवोल्टिक सिस्टम प्राप्त कर सकते हैं"।
FLATCON (TM) मॉड्यूल के साथ-साथ नई कोशिकाओं का पहला प्रदर्शन वर्तमान में Fraunhofer ISE में संघीय पर्यावरण मंत्रालय (BMU) के एक शोध परियोजना के हिस्से के रूप में विकसित किया जा रहा है।
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- डॉ। एंड्रियास बेट्ट, फ्राउनहोफर ISE - tel: +49 761 4588 5257, फैक्स: +49 761
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स्रोत: डेपीच आईडीडब्ल्यू, फ्राउनहोफर आईएसई प्रेस विज्ञप्ति,
18/02/2005
संपादक: निकोलस Condette, nicolas.condette@diplomatie.gouv.fr