एक प्रौद्योगिकी की ओर फोटोवोल्टिक की लागत कम करने के लिए


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photovoltaics पर IRDEP, अनुसंधान एवं विकास संस्थान, परियोजना है कि CISEL EDF, CNRS और ENSCP लाता तहत आयोजित पेरिस में रसायन विज्ञान के लिए नेशनल स्कूल, एक करने के लिए फोटोवोल्टिक प्रौद्योगिकी को विकसित करना है लागत / प्रदर्शन 1 € वाट प्रति चोटी।

फोटोवोल्टिक बाजार के 99% सिलिकॉन आधारित सिस्टम (क्रिस्टलीय या अनाकार) के कब्जे में कर रहे हैं, परियोजना CISEL सक्रिय सीआईएस (तांबा, ईण्डीयुम, सेलेनियम), ग 'के आधार पर सामग्री जमा करने के लिए एक विधि पर डाल अवशोषक है कि बिजली में प्रकाश बदल देता है, सीधे एक धातु संपर्क, मोलिब्डेनम, कैडमियम सल्फाइड और जिंक आक्साइड के संयोजन एक कांच के अध पर कहने के लिए है। वास्तव में, प्रौद्योगिकी "पतली फिल्म" कहा जाता है कई वर्षों के लिए ही अस्तित्व में है, और भले ही वे फोटोवोल्टिक दक्षता के मामले में कम कुशल हैं, 2 के बजाय के बारे में 200 माइक्रोन मीटर के कच्चे माल में लाभ माइक्रोन 100 के लिए, है एक संपत्ति हालांकि, वे पैनल विनिर्माण प्रक्रियाओं तथाकथित पर सह वाष्पीकरण प्रकार या sputtering, जो अपेक्षाकृत महंगे हैं और, अंततः के "वैक्यूम" भरोसा करते हैं, आधारित प्रणाली के साथ आर्थिक तोड़ने का निर्माण नहीं करतीं सिलिकॉन।


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