सौर फोटोवोल्टिक पर लेख का पूरक, यहां देखें।
विनिर्माण तकनीक और ऊर्जा निवेश पर रिटर्न (स्रोत विकिपीडिया)
सिलिकॉन वर्तमान में औद्योगिक स्तर पर उपलब्ध फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के निर्माण के लिए सबसे अधिक उपयोग की जाने वाली सामग्री है। रेत के विभिन्न उपचारों से सिलिकॉन को शुद्ध करना संभव हो जाता है जिसे बाद में भट्टी में गर्म और कम किया जाता है। प्राप्त उत्पाद तथाकथित धातुकर्म सिलिकॉन है, जो केवल 98% शुद्ध है। फिर इस सिलिकॉन को रासायनिक रूप से शुद्ध किया जाता है और परिणामस्वरूप इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड सिलिकॉन बनता है जो तरल रूप में होता है। इसके बाद, डोपिंग चरण के दौरान इस शुद्ध सिलिकॉन को डोपिंग तत्वों (पी, एएस, एसबी या बी) में समृद्ध किया जाएगा, ताकि इसे पी या एन प्रकार के अर्धचालक में परिवर्तित किया जा सके।
फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के उत्पादन के लिए ऊर्जा की आवश्यकता होती है, और यह अनुमान लगाया गया है कि एक फोटोवोल्टिक सेल इसके निर्माण के लिए आवश्यक ऊर्जा का उत्पादन करने के लिए इसकी तकनीक के आधार पर लगभग 2 से 3 वर्षों तक काम करना होगा (मॉड्यूल की ऊर्जा वापसी)
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